真空腔体
一般真空腔体内部是规则的长方体,用一面加热进行热辐射的方式热传导不能合理涵盖整个腔体的内部空间,所以效果不是很理想,.经过试验论证,采取在真空腔体内正上方、正下方、左侧面、右侧面各安装一套加热板加热的方法,采用面对面热辐射方式对腔体内部进行加热.
由于设备在真空状态下采用了上,下,左,右四面四路加热的方法,比单纯一路加热就要复杂多了,这也是温度控制的难点.因此采用PID来进行温度控制调节,控温热偶设置在腔体内部,这样可以更好地控制真空腔体内的温度.
真空腔体
流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有：磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。
真空泄漏
大的泄漏通常会非常明显：真空腔体压力未按正常速度下降，或者极限压力明显高于正常值。然而，有些时候，由于真空泵可以轻松处理泄漏气体造成的气载，小的泄漏很难被发现，这时，即使真空计的读数仍然在正常的水平，泄漏的出现仍有可能为真空腔体带来期望之外的气体（如氧气），这些气体有时候会对工艺过程（比如某些镀膜工艺）带来非常严重的影响。所以，无论真空系统的压力是否有明显下降，都应该定期进行泄漏检测。
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